半导体除了光刻机还有什么设备?

半导体制造离不开光刻机这个我们都知道，对于半导体生产来说并不是只有光刻机很重要，还有涂胶显影设备、刻蚀设备、离子注入设备、沉积设备、检测设备等等，再者就是半导体原材料当中相关的。其实，对于半导体领域中的光刻机所搭配的门徒平台来说，其他重要设备也同样需要，这方面的门徒注册就可以直接咨询我们门徒厂家。

半导体除了光刻机还有什么设备?

1、刻蚀设备

光刻机关键一步是曝光，也就是就像相机在底片上的投影一样，光刻机其实只是画了图，真正的微电路实现需要刻蚀机把电路蚀刻出来，刻蚀机的种类也很多。在芯片制造过程中，需要用到等离子刻蚀机，与光刻机的等离子刻蚀机最终可以完成芯片生产。

2.离子注入设备

离子注入机也是集成电路制造过程中最关键的设备。主要用于掺杂过程中，改变固体表面层的物理和化学性质，控制半导体的电学性质和修饰金属。与传统的掺杂工艺相比，它具有更高的精度、更低的温度要求和更好的均匀性。目前，市场份额主要由美国的应用材料和Axcelis控制

3.沉积设备

沉积设备有很多种，如原子层沉积设备、化学气相沉积设备、物理气相沉积设备等。即蒸发材料然后将它们沉积在电镀工件上的薄膜制备技术。我们知道，有机发光二极管屏的工艺实际上采用的是沉积工艺，沉积工艺设备非常多样，应用广泛，主要由美国和日本的科技公司控制

4.试验检测设备

在芯片生产过程中，有一定的成品率。在成品的最后，需要专门的设备来检测这些产品的性能是否符合要求。检测设备很多，如工艺检验、晶圆检验设备、验证测试设备等。目前，全球市场基本被美国和日本的科技公司垄断

5.半导体原材料

与设备相比，半导体所需的原材料也非常重要。虽然碎片都是沙子做的，但是把沙子变成碎片的过程是非常曲折和困难的。半导体原材料有很多种，比如单晶硅、光刻胶、电子气、靶材，还有很多子类。当然也有有机光电和无机光电材料。去年，由于日本几个关键半导体原材料短缺，三星几乎无法开展业务

此外，除了核心设备光刻机，用于光刻工艺的半导体设备也需要涂胶和显影设备。涂胶显影设备是光刻工艺中与光刻机配套使用的涂胶、烘烤、显影设备，包括涂胶机、喷胶机、显影机，用于8英寸及以上晶圆的大型生产线。

一般这类设备与光刻设备在线工作，形成成套的晶圆加工和光刻生产线，与光刻机合作完成精细的光刻工艺流程。