光刻机最新消息包含中国相关内容进展消息

光刻机在如今的科技发展领域当中起着重要作用，如今刚刚进入2022年，对于中国未来科技领域发展中的光刻机来说仍然是需要不断努力，目前来说光刻机荷兰的光刻设备是先进的。另外，相对于很多工业设备所需的门徒平台是可以直接咨询我们门徒厂家，厂家直接对接更放心。

目前，高端光刻市场已经完全被荷兰ASML占领。由于缺乏技术水平，尼康和佳能7纳米及以下芯片的制造能力已经落后于ASML。目前最先进的技术是ASML开发的EUV光刻，可以适应7纳米到5纳米工艺芯片的设计和制造。

佳能的业务主要集中在低端光刻机器市场，主要生产封装光刻机器、LED光刻机器和面板光刻机器。尼康正处于追赶ASML的状态。尼康的光刻机种类繁多，从用独特的多镜头投影光学系统加工大型面板，到在功能设备上制造中小型面板，充分发挥了其在面板(FPD)光刻的比较优势

目前尼康还在推广ArF浸没技术，EUV技术的应用还不成熟，光刻工艺与ASML还有很大差距。整体来看，尼康和佳能主要占据低端市场。

从光刻机器的全球市场份额来看，2020年，ASML、尼康和佳能将分别占据全球光刻机器市场的84%、7%和5%，总市场份额约为96%。从销量变化趋势来看，2017年至2020年，光刻机器在三家企业的销量从294台增长至413台，复合年增长率约为12%。ASML销量的市场份额从67%下降到62%，尼康从13%下降到8%，佳能从20%上升到30%。

光刻机器的制造极其复杂。从产业链来看，上游产业链主要包括11个模块，包括测量台和曝光台(双载物台)、激光器、光速校正器、能量控制器、光速形状设定、快门、能量检测器、掩模板、掩模板、物镜、内闭架和减震器。最重要的上游设备是光学透镜、光学光源和双级。光刻机械行业的下游主要是圆晶代工企业，下游主要决定光刻机械市场的需求。

从上游光学镜头来看，世界上能生产光刻机光学镜头的公司只有三家，分别是德国卡尔蔡司，日本尼康和佳能。卡尔蔡司是光学和光电领域的绝对权威。第五代高端EUV光刻机使用的光学镜头仅由卡尔蔡司，制造，长期为ASML生产的光刻机提供高性能光学镜头。

尼康主要生产AF尼克尔，AF变焦尼克尔，DX系列等大光圈广角系列镜头，在光刻机领域主要用于自身生产的ArFi、ARF高端光刻机。佳能主要生产EF系列、TS-E、MP-E系列光学镜头，广泛应用于医疗技术、测量系统、眼镜镜片、相机等领域，主要应用于光刻机器领域的I-line光刻机器。

从上游光源来看，光刻机要求光源系统小、功率高、稳定，所以光源是高端光刻机的另一个核心部件，最先进的EUV光刻机使用的光源是激光等离子体光源，但目前只有美国的Cymer和日本的Gigaphoton可以生产。Cymer是全球光源制造的领导者，市场份额超过70%。

双阶段虽然只是加工阶段，但技术难度不可低估。它对载物台的传送速度和精度要求极高，在高速运动下需要达到2nm的运动精度。它的定位精度也直接影响到光刻硅片的质量

2001年，ASML引入Twinscan双级系统，使光刻机能够在一个平台上曝光晶圆，在另一个平台上预对准晶圆，并在第一时间得到结果反馈。生产效率提高了35%左右，准确率提高了10%以上。

从圆晶，下游代工企业来看，圆晶全球代工市场呈现“一超多强”的现状。2020年，台积电以56%的市场份额处于绝对领先地位，三星和联电分列分列二、三位，中芯国际排名第五。从工艺技术来看，领先技术(5nm-7nm)目前约占25%的市场份额，主要用于CPU、GPU等超大规模集成电路的制造。

2017-2020年，圆晶OEM行业全球市场规模将从601亿美元增长至928亿美元，复合年增长率为15.6%。随着人工智能、物联网、5G等行业的快速发展，各行业对芯片的需求呈爆发式增长，对高端光刻机的需求仍将长期供不应求。